还台积电清白,黄仁勋:Blackwell 设计缺陷全是 Nvidia 责任

Nvidia 执行长黄仁勋坦承,Blackwell GPU 的设计缺陷完全是公司的责任。他在本周表示:这是百分百 Nvidia 的问题,而合作伙伴台积电已及时协助解决问题,改良版芯片现已进入量产阶段。

澄清与台积电关系
针对早前市场传言指台积电应对良率问题负责,并暗示此事影响双方合作关系,黄仁勋直接否认,并表示这些都是假消息。这番表态突显 Nvidia 与台积电维持稳固的合作关系。


技术问题与解决方案
问题源于 Blackwell B100 及 B200 GPU 使用台积电 CoWoS-L 封装技术时的设计缺陷。为解决此问题,Nvidia 修改了 GPU 矽晶的顶层金属层和凸块设计,成功提升良率。新版晶片将于 10 月底开始量产,预计明年初出货。


市场供应安排
为满足 AWS、Google 和 Microsoft 等主要客户需求,Nvidia 表示 2024 年期间仍会出货部分早期良率较低的 Blackwell 处理器,但未透露具体数量。


🗒 标签: #台积电 #英伟达 #显卡
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